下文介绍武汉市集成电路布图设计登记代理申请方法及费用，集成电路布图设计登记保护期有多久呢，一起来看看吧~武汉市集成电路布图申请代理需要帮助随时沟通。
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设计武汉市集成电路布图设计登记保护期
审查采用登记制，申请经初步审查合格即获准登记。登记过程较短，一般申请递交之后2个月左右即可拿到证书。
布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在shi界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受到保护。
集成电路布图设计权的主体
按照我国《集成电路布图设计保护条例》第3条的规定，中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计权；外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计权；外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或共同参加国际条约的，依照本条例享有布图设计权。
客观条件
集成电路布图设计必须具备独创性。布图设计应当是作者依靠自己的脑力劳动完成的，设计必须是突破常规的设计或者即使设计者使用常规设计但通过不同的组合方式体现出独创性时，都可以获得法律保护。
 方式和程序
目前，shi界各国主要采取三种取得方式：自然取得，登记取得，使用与登记取得，大多数国家采取登记取得制。我国也采取登记制度。
取得的程序：
（1）申请：向国家知识产权行政部门提交申请文件；
（2）初审；
（3）登记并公告；
（4）对驳回申请的复审；
（5）登记的撤销。
 集成电路布图设计申请阶段需提交的材料
（1）集成电路布图设计登记申请表。
（2）集成电路布图设计的复制件或者图样。
（3）集成电路布图设计已投入商业利用的，提交含有该集成电路布图设计的集成电路样品。集成电路布图设计在申请日之前已投入商业利用的，申请登记时应当提交4件含有该集成电路布图设计的集成电路样品。
（4）国家知识产权局规定的其他材料。
武汉市集成电路布图设计登记条件
1、要求保护的布图设计必须具有独创性，即该布图是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时，该布图设计不是布图设计创作者和集成电路制造者中公认的常规设计；
2、受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体同样应当具有独创性。
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